| 精度 | ±0.03%（F.S. of readings） |
| 重復性 | ±0.02%（F.S. of 10cc） |
| 測量溫度范圍 | 15°C~35°C 15°C~50°C（需要配備恒溫槽系統） |
| 測量壓力范圍 | 大氣層~150千帕 |
Microtrac MRB：作為一個顆粒表征解決方案的供應商，提供三條產品線，在三大洲擁有研發和技術中心。
散射光分折: Microtrac MRB作為粒度測量的通用方法—靜態激光衍射法的領導者，還提供的動態光散射納米粒度儀，用于納米顆粒的表征。該產品線的開發和生產地點位于美國的賓夕法尼亞州。
圖像分析: Microtrac MRB基于動態圖像分析技術，為顆粒大小和形態的測定提供了高質量的PartAn系列測量系統。這些圖像分析儀的開發和生產地點位于德國的哈恩。
比表面和孔徑測量: Microtrac MRB的另外一條產品線采用氣體吸附法為粉體樣品的比表面值，BET值和孔徑測量提供了吸附系列的分析儀器。開發和生產以及裝配地點位于日本大阪的表面分析中心。
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